公司概况

市场表现

• 2024 年 12 月 31 日：截至 15 时 22 分，股价为 153.67 元，较前一交易日下跌 6.71 元，跌幅 4.18%，成交量 4.29 万，成交额 6.72 亿，总市值 427.70 亿。
• 近期走势：自 2022 年 4 月 20 日在上海证券交易所科创板上市以来，股价整体波动较大，在 2024 年期间有一定程度的下跌。

经营业绩

• 2024 年前三季度：实现营业收入 22.78 亿元，同比增长 33.79%。主要由于公司多款基于新型设备平台（pf-300m 和 pf-300tplus）及新型反应腔（supra-d）开发的工艺设备实现收入确认。
• 2023 年：营业收入达到 270,497.40 万元，同比增长 58.60%，再创历史新高；归属于上市公司股东的净利润 66,258.38 万元，同比增长 79.82%。公司营业收入持续高速增长，2021 年至 2023 年复合增长率达到 211.04%。

公司优势

• 技术研发优势：公司始终坚持自主研发，已形成 pecvd、ald、sacvd、hdpcvd、超高深宽比沟槽填充 cvd 等薄膜设备产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品的先进水平。
• 产品应用广泛：公司产品主要应用于集成电路晶圆制造、tsv 封装、mems、micro-led 和 micro-oled 显示等高端技术领域，已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等 20 多个地区的 60 多条生产线。
• 市场地位较高：在国内集成电路领域薄膜沉积设备市场中，拓荆科技的市占率达到 5.8%，国内第二，仅次于北方华创。

行业前景

• 市场需求增长：随着全球半导体产业的快速发展，芯片制程升级、3dnand 垂直化发展以及下游晶圆厂扩产，对半导体设备的需求持续增长，为拓荆科技带来广阔的市场空间。
• 政策支持：半导体产业作为国家战略性新兴产业，近年来得到了政府的大力支持，这将有助于拓荆科技等企业在技术创新、产业升级等方面获得更多的资源和政策优惠。

风险提示

• 技术创新风险：半导体技术更新换代迅速，如果公司不能及时跟上技术发展的步伐，推出满足市场需求的新产品和新技术，可能会面临市场竞争力下降的风险。
• 市场竞争风险：全球半导体设备市场主要由应用材料、泛林、东京电子等国际巨头垄断，国内市场也面临着北方华创、中微公司等企业的竞争，如果拓荆科技不能持续提升产品竞争力和市场份额，可能会在市场竞争中处于劣势。
• 国际贸易风险：公司在国际市场上面临着国际贸易摩擦、技术出口管制等风险，如果相关政策发生不利变化，可能会对公司的海外市场拓展和业务发展产生不利影响。